M2 山中君、日本セラミックス協会 セッション「最優秀賞」
2025年9月17日(水)~9月19日(金)に開催された日本セラミックス協会 第38回秋季シンポジウムにおいて、M2 山中が特定セッション『06 グリーン・プロセッシング〜低環境負荷を指向す […]
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2025年9月17日(水)~9月19日(金)に開催された日本セラミックス協会 第38回秋季シンポジウムにおいて、M2 山中が特定セッション『06 グリーン・プロセッシング〜低環境負荷を指向す […]
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2025年9月17日(水)~9月19日(金)に開催された日本セラミックス協会 第38回秋季シンポジウムにおいて、M2 山中が特定セッション『06 グリーン・プロセッシング〜低環境負荷を指向す
M1 平野君、日本セラミックス協会 セッション「優秀賞」 Read More »
2025年9月29日(月)~10月1日(水)、東京科学大学 大岡山キャンパスにて開催されたThe 15th International Conference on the Science a
2025年9月17日(水)~9月19日(金)、群馬大学 荒牧キャンパスで開催された日本セラミックス協会 第38回秋季シンポジウムにて、D3 甲斐、M2 山中、M1 平野が研究発表をしました。
日本セラミックス協会 第38回秋季シンポジウム Read More »
2025年3月24日(金)~3月17日(月)、東京理科大学 野田キャンパスおよびオンラインのハイブリッド形式で開催された第72回 応用物理学会 春季学術講演会にて、M1 山中が研究成果を発表
第72回 応用物理学会 春季学術講演会 Read More »
単結晶基板上に酸化チタン系エピタキシャル薄膜の相選択的結晶成長に関する共同研究の成果がApplied Surface Science Advances / Vol. 26に掲載されました。
酸化チタン薄膜の結晶相選択的エピタキシャル成長の論文が掲載 Read More »
p型半導体である酸化コバルトについて紫外光プロセスによるエピタキシャル薄膜構造・導電性制御に関する研究成果がThe Journal of Physical Chemistry / Vol.1
光プロセスによる酸化コバルト半導体薄膜のトポタキシャル構造制御の論文が掲載 Read More »
ワイドギャップ半導体である酸化ガリウムβ-Ga2O3薄膜のレーザープロセスによる急速固相結晶化とパターニングに関する共同研究の成果がApplied Physics Express / Vol
酸化ガリウム薄膜のエピタキシャル薄膜パターン形成の論文が掲載 Read More »
ワイドギャップp型半導体である酸化ニッケルについて光プロセスによるエピタキシャル薄膜構造・導電性制御に関する研究成果がApplied Surface Science / Vol.689に掲載
酸化ニッケルp型半導体薄膜の構造・物性制御の論文が掲載 Read More »
2024年9月16日(月)~9月20日(金)、朱鷺メッセ(ほか2会場)およびオンラインのハイブリッド形式で開催された第85回 応用物理学会 秋季学術講演会にて、M2 河村が研究成果を発表しま
第85回 応用物理学会 秋季学術講演会 Read More »