2026年3月15日(日)～3月18日(水)、我らが東京科学大学 大岡山キャンパスおよびオンラインのハイブリッド形式で開催された第73回 応用物理学会 春季学術講演会にて、松田准教授、M1 村岡、仲野が研究成果を発表しました。
酸化物エピタキシャル薄膜への真空紫外線照射による構造・物性変化、深紫外レーザープロセスによるワイドギャップ半導体の固相結晶化と物性制御、生分解性を示す熱可塑性高分子表面への原子スケールパターン転写に関する研究結果および経過です。
今学会でのは多くの来場者と意見交換・議論をさせていただき、光プロセス・熱プロセスによる材料制御に関する知見を得ることができました。
1.
熱ナノインプリント法によるトリアセチルセルロースフィルム表面への原子ステップパターン転写 Presentation
第73回応用物理学会春季学術講演会, "7 ビーム応用", 18a-PB3-9, 東京科学大学 大岡山キャンパス, 東京都目黒区, Japan, 18-Mar-2026.
2.
深紫外レーザーアニールによるSnO2薄膜の固相エピタキシーとドーパントへの影響 Presentation
第73回応用物理学会春季学術講演会, "21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」", 18a-PA3-17, 東京科学大学 大岡山キャンパス, 東京都目黒区, Japan, 18-Mar-2026.
3.
真空紫外光照射による遷移金属酸化物エピタキシャル薄膜表面の構造・導電性制御 Presentation
第73回応用物理学会春季学術講演会, "6.3 酸化物エレクトロニクス", 17a-PB1-5, 東京科学大学 大岡山キャンパス, 東京都目黒区, Japan, 17-Mar-2026.