2025年9月17日(水)～9月19日(金)、群馬大学 荒牧キャンパスで開催された日本セラミックス協会 第38回秋季シンポジウムにて、D3 甲斐、M2 山中、M1 平野が研究発表をしました。 また、松田准教授がセッション「06. グリーン・プロセッシング」をオーガナイズしました。
ワイドギャップ酸化物半導体薄膜を前駆体とした、高エネルギーなフォトンを利用する光誘起トポケミカル反応による物性制御や、水素還元による強磁性金属エピタキシャル薄膜への構造変換などについて議論を行い、電子機能性セラミックスを含む薄膜ナノ構造の低エネルギー合成プロセスについて研究を進捗させる知見を得ることができました。
1.
真空紫外光照射による酸化ニッケル薄膜のp型導電性制御における結晶性の影響 Presentation
日本セラミックス協会 第38回秋季シンポジウム, "06. グリーン・プロセッシング", 2PF04am, 群馬大学, 群馬県前橋市, Japan, 18-Sep-2025.
2.
Ga2O3薄膜のELA固相エピタキシーにおけるドメイン構造と基板結晶面の影響 Presentation
日本セラミックス協会 第38回秋季シンポジウム, "06. グリーン・プロセッシング", 1F20, 群馬大学, 群馬県前橋市, Japan, 17-Sep-2025.
3.
遷移金属酸化物結晶の水素還元によるヘテロエピタキシャル薄膜の構造制御 Presentation
日本セラミックス協会 第38回秋季シンポジウム, "06. グリーン・プロセッシング", 1F23, 群馬大学, 群馬県前橋市, Japan, 17-Sep-2025.