日本セラミックス協会 第42回電子材料研究討論会

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2022年11月10日(水)～11月11日(金)、東京工業大学 すずかけ台キャンパスにおいて開催された日本セラミックス協会 第42回電子材料研究討論会にて、M2 甲斐、後藤が研究発表をしました。 
本研究討論会は、日本セラミックス協会 電子材料部会が主催する、電子材料やデバイス、プロセスに関連した研究成果について講演、議論がなされる研究会です。

1.

甲斐稜也, 沼田拓実, 金子健太, 大賀友瑛, 金子智, 吉本護, 松田晃史

深紫外レーザーアニーリングによるポリマー基板上の酸化ガリウム薄膜の固相配向結晶化 Presentation

第42回電子材料研究討論会, 1B14, 東京工業大学 すずかけ台キャンパス, 神奈川県横浜市, Japan, 10-Nov-2022.

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2.

後藤祐己, 河村和哉, 金子健太, 金子智, 吉本護, 松田晃史

La3Ni2O7エピタキシャル薄膜のアニールによる構造制御 Presentation

第42回電子材料研究討論会, 1B11, 東京工業大学 すずかけ台キャンパス, 神奈川県横浜市, Japan, 10-Nov-2022.

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